设备的图片为左侧图片的前面膜贴在右侧的前面板上。 WH-400超声波清洗机内槽尺寸300×250×250，容积185升，超声功率400W，超声频率40KHz，具有功率可调40～100、时间可调0～199mim、温度可调0～99℃等功能，皆为数码显示，加热功率300W，输入电压220V、50KHz。该设备有网架、降音盖、具有排水功能。 CVD后清洗：除去CVD过程中的颗粒。 附件及工具的清洗：除去表面所有的沾污物。 硅片清洗设备 可用于完成扩散前、光刻后、CMP后及氧化前等工艺的清洗工作。例如：RCA清洗、SPM清洗、SC清洗、金属离子及杂物去除清洗等。 全自动硅片清洗机 手动硅片清洗机 附件及工具清洗设备 石英管清洗机 酸碱清洗台 有机化学超净工作台 部件清洗台 氮气储存柜 硅片清洗设备特点 手动硅片清洗设备。济宁万和超声电子设备有限公司 可根据不同的清洗工艺配置各种相应的清洗功能槽。 WH-600超声波清洗机一体式制作，内槽尺寸（mm）406×355×266，容积38L,内槽采用304L/2mm不锈钢板制作，外护板采用10不锈钢拉丝板制作，外形尺寸（mm）566×495×520。 超声功率600W，功率可调，超声频率20KHz（清洗效果更好，如果您就要40KHz的也可以），换能器振子6个,100W/个。 加热功率1000W，具有温控功能，温度数字显示。 一个不锈钢清洗槽盖，一个不锈钢清洗网篮。 重量：21Kg 电源220V 50KHz。 带超声开关、调功旋钮、超声电流表、加热开关、温控仪