产品关键词概述：软胶囊内容物胶体磨，，胶囊胶体磨，改良型胶体磨，医药乳液胶体磨，医药混悬液胶体磨
软胶囊制剂多用于非水溶性、对光敏感、遇湿热不稳定、易氧化额挥发的药物。它密封严密、用量精确、生物利用度高，药物的稳定性也得到提升，此外还有掩盖不良嗅味的作用。实验证明，口服制剂的生物利用度，以内容物为溶液的软胶囊zui好，混悬液次之，再次为含颗粒的硬胶囊，zui差为片剂。此款医药改良型胶体磨不仅转速高达14000rpm，并且在传统胶体磨的基础上加入了一组分散盘，先研磨后分散，物料粒径更细，更稳定！
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IKN研磨分散机，对于软胶囊的生产有着巨大的优势，对于软胶囊内容物的处理十分有效，无论内容物是乳液还是混悬液，都可以将物料充分的细化，提高物料的稳定性和药效。改良型胶体磨的作用力体现在它的剪切力和作用刀头，IKN改良型胶体磨，研磨分散机，有一级胶体磨头和一级分散盘，对物料先研磨后分散机，再配合14000rpm的转速，乳液粒径一般可细化至1-2微米，混悬液一般可细化至3-5微米，当然这也要根据具体的物料性质和工艺来定。
CMD2000系列研磨分散设备是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变更为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）
CMD2000研磨机有一定输送能力，对高固含量有一定粘稠度物料，CM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子，进行物料的推动输送；所有与物料接触部位均为316L不锈钢，机座采用304不锈钢；特殊要求如：硬度较大物料，对铁杂质要求严苛的物料，管道有一定压力并且需不间断运转的工况，可选磨头喷涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计，可通冷却或者升温介质。
研磨分散机的特点：
1、 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨
2、 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
3、 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
4、 在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
5、 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
以上是软胶囊内容物胶体磨的详细信息，由上海依肯机械设备有限公司市场部自行提供，如果您对软胶囊内容物胶体磨的信息有什么疑问，请与该公司进行进一步联系，获取软胶囊内容物胶体磨的更多信息。
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