产品关键词概述：，二氧化钛分散机 UV油墨二氧化钛分散机 纳米二氧化钛分散机 高剪切研磨分散机 研磨分散机价格
分散是至少两种互不相溶或者难以相溶且不发生化学反应的物质的混合过程。工业分散的目标是在连续相中实现“令人满意的纳米级”精细
纳米二氧化钛还具有很高的化学稳定性、热稳定性、无毒性、超亲水性、非迁移性，且完全可以与食品接触，所以被广泛应用于抗紫外材料、纺织、光催化触媒、自洁玻璃、防晒霜、涂料、油墨、食品包装材料、造纸工业、航天工业中。
纳米二氧化钛用在医药上
医药级钛白粉作用与用途：本品在药物制剂中用作包衣剂，着色剂和紫外线稀释剂，用于制备包衣片，丸，颗粒剂，胶囊剂和外用制剂。在色淀中，用作遮盖剂，以使色泽均匀。 便于吞咽，并且能够遮掩药物本身的味道和控制药物在体内的释放。制造药片包衣通常包括分散和水化粉末（如，纤微素，糖，色素等）到溶剂或水相中。难点在于如何找到卫生级的混合设备，有效的混合多样的粉体制造出药片包衣。
纳米二氧化钛分散目前国内采用3000转的胶体磨或者采用3000转的分散机，外资企业一般利用进口的3000转胶体磨如雅培 国内的企业一般采用3000转分散机，分散效果不太好
我们可以采用9000转的胶体磨或者14000转改进型研磨分散机（包括胶体磨和分散机），效果明显高于
纳米级由于纳米TiO2表面极强的活性，使它们很容易团聚在一起从而形成带有若干弱连接界面的尺寸较大的团聚体，这大大降低甚至消除了纳米颗粒的实际应用效果，
一般国内各个厂家采用不同的处理方式 有300转的分散机 还有砂磨机 ，三辊机等等处理
在界面改质技术没有出现以前，利用三辊研磨、分散机、珠磨机、搅拌磨等分散研磨设备将材料分散研磨到微米或次微米级，却很难达到纳米级的细度。其主要原因是一旦材料的颗粒大小被机械力分散研磨纳米化以后，此时粉体的比表面积急剧增加，范德华力效应及布朗运动变得明显，粉体因非常容易再度凝聚在一起，所以不管再怎么分散研磨，粒径总是降不下来！
CMD2000系列是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变更为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）
CMD2000研磨机为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到低，保证机器连续24小时不停机运行。
CMD2000系列研磨分散机的结构：研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。
第一级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验指定工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出最终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
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