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阻垢剂沃川阻垢剂品牌

  • 发布时间:2016-12-05 18:53:54
    报价:面议
    地址:天津,西青,华苑产业区(环外)海泰发展五道16号海泰创新基地B区1号楼
    公司:天津沃川水处理工程技术有限公司
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    用户等级:普通会员 已认证
    天津沃川水处理工程技术有限公司专注于水处理药剂24年,被评为水处理药剂国家标准起草单位,并荣获国家权威检验检测报告证书,申请获得多项发明专利证书。公司的主营业务是为工业水处理系统提供整体解决方案,涉及的产品包括缓蚀剂,阻垢剂,缓蚀阻垢剂,阻垢缓蚀剂,反渗透阻垢剂,杀菌灭藻剂、絮凝剂等水处理药剂。 复合阻垢剂 锅炉专用缓蚀阻垢剂TH-503是由有机膦酸和聚羧酸等高聚物组成的复合品,具有很高的缓蚀和阻垢性能,其耐温性特别好,可有效地应用于低压锅炉的炉内水处理。 热网专用阻垢剂主要由高效分散剂、酚羟基、磺酸基团等组成,对水中的碳酸钙、硫酸钙等成垢因子具有晶格畸变作用,使垢不易牢固地吸附在器壁上,松散地分散在水中,显示出优良的阻垢作用。 缓蚀阻垢剂TH-601由有机膦酸、聚羧酸、碳钢缓蚀剂等组成,对水中的碳酸钙、磷酸钙等均有很好的螯合分散作用并且对碳钢具有良好的缓蚀效果,主要用于钢铁厂循环冷却水系统的缓蚀阻垢,其缓蚀效果好、阻垢力强。 缓蚀阻垢剂TH-604由有机膦酸、聚羧酸、碳钢缓蚀剂及铜缓蚀剂复配而成,对水中的碳酸钙、硫酸钙、磷酸钙等均有很好的螯合分散作用并且对碳钢、铜具有良好的缓蚀效果。 缓蚀阻垢剂TH-604主要用于循环冷却水系统缓蚀阻垢,如电厂、化工厂、石化、钢铁等循环冷却水系统,缓蚀阻垢剂TH-604缓蚀效果好、阻垢力强。 本品主要由多种有机膦羧酸、聚羧酸、含磺酸盐共聚物、缓蚀剂、特殊界面活性剂等组成,适用于循环水中Ca2++碱度要求达到1500 ppm的高浓缩倍率的循环冷却水系统。 天津沃川水处理工程技术有限公司专注于水处理药剂24年,被评为水处理药剂国家标准起草单位,并荣获国家权威检验检测报告证书,申请获得多项发明专利证书。公司的主营业务是为工业水处理系统提供整体解决方案,涉及的产品包括缓蚀剂,阻垢剂,缓蚀阻垢剂,阻垢缓蚀剂,反渗透阻垢剂,杀菌灭藻剂、絮凝剂等水处理药剂。 阻垢剂是能够控制产生水垢和污泥的水处理化学药剂。常将阻垢剂与缓蚀剂共同称为循环冷却水的水质稳定剂,或缓蚀阻垢剂。通常的水处理剂往往同时具有缓蚀和阻垢两种性能,所以有时不能截然区分缓蚀剂和阻垢剂, 阻垢剂是能够控制产生水垢和污泥的水处理化学药剂。常将阻垢剂与缓蚀剂共同称为循环冷却水的水质稳定剂,或缓蚀阻垢剂。通常的水处理剂往往同时具有缓蚀和阻垢两种性能,所以有时不能截然区分缓蚀剂和阻垢剂,只能按其主要性能区分,例如,通常认为有机磷酸盐是阻垢剂,也有缓蚀作用,取磷酸盐为常用的缓蚀剂,也有阻垢作用。 天津沃川水处理工程技术有限公司自主研发的系列水处理药剂,广泛用于化肥、石油化工、冶金、发电、采油、炼油、轻工、集中供热、中央空调、制药、纺织等领域。 在我国经济不断蓬勃发展条件下,沃川公司面临的是机遇也是挑战,沃川人抓住机遇迎接挑战,沃川公司将充分发挥技术优势、人才优势、服务优势,以我们产品、技术、服务为水处理行业的发展做贡献,为环保事业做出新贡献! 水处理剂由天然无毒性有机物改性精制而成,含有羧基、羟基、醌基、甲氧基等 多种活性基团,多种活性基团在芳核和键桥上随机分布,有一部分彼此相邻构成的络合位。金属离 子等可通过共价键或配位键连接在功能团或芳核上,这种多价非均质缩聚分子间可以通过氢键金属 离子桥,电荷转移络合、偶合而缔合成一般高分子所没有的超分子结构,具有优异的络合、螯合、 吸附、离子交换、电子交换和缓冲能力。在水处理应用中,具有如下重要特点: 一、节水: 水处理剂时只需按损失的水,补充相应的药剂,水中的成垢离子会变成无 定型悬浮物,随排污排出,水得到自净化,排污量很小;它的水体为淡茶色,锅炉的使用中还防 止了人为放水。 二、节能 : 锅炉的传统水处理方式是在其结垢以后,进行物理或者化学清洗。清洗前设备已经结垢,在 日常运行时就会多消耗能源,设备使用年限缩短 。使用水处理剂后,锅炉原有老垢 会逐渐脱落,设备免于化学清洗,设备内壁形成一层保护膜,从根本上防止了腐蚀和结垢现象。 提高热交换率,节能降耗,延长设备使用年限。 防垢: 水体中含有数量不同的钙、镁等可溶性离子及多种酸根离子和微量金属离子,循环水换热面 因这些离子的存在而产生水垢或腐蚀。药剂中聚合物具有捕获这些成垢离子的特性,这种反应具 有随意性和不均匀性,生成物为不溶性微细絮状颗粒,没有定型的分子结构,杂乱而畸形多变 ,在流动中能吸附水中的多种杂质离子和悬浮微粒,无法在换热面上形成有序排列的碳酸钙、碳 酸镁等硬垢结晶。微细絮状物带有相同的电荷,相互排斥,流动性好,不易在管道中沉积。十多 年的大量实例表明,防垢效率可达 98% 以上,使用本药剂无需化学清洗。

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