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IKN研磨均质机能够实现自动控制，且操作简单方便，机器运行很稳定。机器的拆洗很方便，不存在任何死角，可以做到全方位的清洗。
纳米混悬液是纯的纳米药物粒子的胶态分散体系，与传统意义上基质骨架型纳米体系不同，纳米混悬液无需载体材料，它是通过表面活性剂的稳定作用，将纳米尺度的药物粒子分散在水中形成稳定的分散体系。
由于纳米混悬液的特性，其在各种给药途径中都体现出独特的优势：如处方简单、制备快速、有利于降低活性化合物的筛选成本，提高药物和生物利用度，摒除附加成分造成的刺激性和毒副作用以及较低的给药体积等。
纳米混悬液的制备：
纳米混悬液的制备主要有两个方面，即处方筛选和工艺优化。处方筛选主要是选择表面活性剂的种类及用量，以提高产品的长期稳定性。工艺优化是通过调整生产工艺和高速研磨均质机的剪切和循环次数等参数。获得理想的粒径分布。
研磨均质机的结构：研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。
第一级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验指定工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
从设备角度来分析，影响研磨均质机效果因素有以下几点：
1.研磨头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次式要好）
2.研磨头的剪切速率，（越大效果越好）
3.研磨的齿形结构（分为初齿、中齿、细齿、超细齿、越细齿效果越好）
4.物料在分散墙体的停留时间、研磨均质时间（可以看作同等电机，流量越小效果越好）
5.循环次数（越多效果越好，到设备的期限就不能再好了。）
线速度的计算：
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-转子 间距 (m)
由上可知，剪切速率取决于以下因素：
转子的线速率
在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（转子直径）X 转速 RPM / 60
所以转速和分散头结构是影响分散的一个zui重要因素，超高速分散均质分散机的高转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是zui重要的
研磨均质机较普通均质机还有一些其它的优势，比如说：
更稳定 采用优化设计理念，将先进的技术与创新的思维有效融合，并体现在具体的设备结构设计中，为设备稳定运行提供了保证.
新结构 通过梳齿状定子切割破碎，缝隙疏密决定细度大小，超高线速度的吸料式叶轮提供超强切割力
更可靠 采用整体式机械密封，zui大程度上解决了高速运转下的物料泄漏以及冷却介质污染等问题，安装与更换方便快捷.
新技术 采用国际先进的受控切割技术，将纤维类物料粉碎细度控制在设定范围之内，满足生产中的粗、细及超细湿法粉碎的要求.
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