在光催化氧化反应中，通过紫外光照射在纳米TiO2光催化剂上产生电子空穴对，与表面吸附的水份（H2O）和氧气（O2）反应生成氧化性很活波的羟基自由基（OH-）和超氧离子自由基能够把各种废臭气体如醛类、苯类、氨类、氮氧化物、硫化物及其它VOC类有机物、无机物在光催化氧化的作用下还原成二氧化碳（CO2）、水（H2O）以及其它无毒无害物质,同时具有除臭、消毒、杀菌的，由于在光催化氧化反应过程中无任何添加剂，所以不会产生二次污染。
该设备核心中的纳米光催化触媒材料（GC-100）是一种吸收光能后，能在其表面产生催化反应的物质，当特定纳米波长的紫外光照射光催化触媒材料（GC-100）时，其表面发生光催化氧化还原反应。光催化触媒材料（GC-100）吸收光子后在其表面产生电子（E—）和空穴（H+），将吸收的光能转化成化学能，即具有光催化作用。
当光催化触媒材料（GC-100）与空气中的水接触时，表面就吸附H2O、O2、OH—，H2O、 OH—被空穴（H+）所氧化，O2被电子（E—）还原，反应室如下：
H2O+ H+ OH. + H+ O2+ E— O2—.OH—基团的氧化能力较强，使有机物氧化，zui终分解为水和CO2。
低温等离子体技术应用于恶臭气体治理，具有处理效果好，运行费用低廉、无二次污染、运行稳定、操作管理简便、即开即用等优点。
介质阻挡放电产生电子能量高，低温等离子体密度大，达到常用等离子技术（电晕放电）的1500倍，几乎可以和所有的恶臭气体分子作用；
技术反应速度快，气体通过反应区的速度达到3-15米/秒，即达到很好的处理效果，其他技术气体通过反应区的速度0.01米/秒都很难达到的处理效果；
气体通过部分，全部采用陶瓷、石英、不锈钢等防腐蚀材料，电极与废气不直接接触，根本上解决了低温等离子体技术设备腐蚀问题；其他技术是气体与电极直接接触，电极在3个月或1年内会造成严重腐蚀，即使通过的气体没有腐蚀性，自身所产生的臭氧也会把电极造成腐蚀；
主机为成套工业废气处理装置，前面配有专用塔，能有效去除废气中的粉尘和水分，操作简单；
自动化程度高，设备启动、停止十分迅速，随用随开，对于部分化工生产的不连续性，可以在生产时开启，不生产的间隙停止运行，大量的节约能源；
运行成本较低，比常用的蓄热式燃烧炉RTO节约运行费用5-8倍，每立方米气量运行费用仅为0.3～0.9分钱，部分高浓度废气可以通过空气稀释后用技术处理；在对大气污染治理日益重视的情况之下，大的设备厂房都会被强制加装废气除臭设备，而设备使用最为广泛的就是UV光解除臭，不仅能够确保废气得到良好的处理，而且初期投资的设备资金也不多。那么在使用UV光解除臭设备的过程中应该注意哪些方面呢？
首先就是要确保传输的过程顺利。进入UV光解等离子除臭设备的管段应该光滑，并且要有一段直管，确保废气进入设备的时候能够形成稳定的恒流，使用的传输管道是用金属软管连接，以确保产生最小的震动效果。
还有就是应该在风机的前段装设风量控制装置，大部分厂商都会采用风机变频器或者空气控制阀来调节风量，因为想让UV光解除臭的处理优势发挥到zui大，进入设备的风量应该是稳定的，而且风量要平稳过渡，如果风量时大时小，不仅废气处理效果不佳，而且对除臭设备也会造成一定的影响。
还有就是要确保留出设备的检修以及维护空间。设备应该在顶部装设防雨措施，设备长时间的运转肯定会有坏，如果不留出检修的空间，到时候就得把设备全部拆开，而这个工作量还是比较大的。
最后就是要做好放电接地。因为UV光解除臭设备也属于高压设备，所以应该在运行维护或者设备检修时都做好防点击事故措施。
工作原理：
在放电过程中，电子从电场中获得能量，通过非性碰撞将能量转化为污染物分子的内能或动能，这些获得能量的分子被激发或发生电离形成活性基团，当污染物分子获得的能量大于其分子键能的结合能时，污染物分子的分子键断裂，直接分解成单质原子或由单一原子构成得无害气体分子。
等离子体中包含大量的高能电子、正负离子、激发态粒子和具有强氧化性的后型自由基，这些活性粒子和部分废气分子碰撞结合，同时产生的大量 OH、HO、O等活性自由基和氧化性极强的 O，能与有害气体分子发生化学反应，而后生成无害产物。