通过特定波长光线照射，激活纳米光催化剂，生成电子空穴对，使光催化剂与周围的H2O分子O2分子 发生作用，结合生成氢氧自由基OH，通过氢氧自由基层层锁住空气中各种有害成分，分解有害分子结构构造，抑制生长和的活性能力，从而达到杀菌、空 气净化、除臭、防霉、污染的目的。工业废气利用排风设备输入到本净化设备后，净化设备运用高能UV紫外线光束及臭氧对工业废气进行协同分解氧化反应， 使工业废气降解转化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通过拜见管道排出室外。利用高能UV光束裂解工业废气中的分子键，破坏核酸（DNA）,再通 过臭氧进行氧化反应，彻底达到净化及杀灭的目的。从净化空气效率考虑，我们选择了C波段紫外线和臭氧结合高电晕电流装置，采用脉冲电晕吸附技术相结合 的原理对有害气体进行，其中C波段紫外线主要用来去除硫化氢、氨、苯、甲醛、乙酸乙酯、乙烷、、尿烷、树脂等有机气体，使有机物转 变为无机物。
本产品利用特制的高能UV紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧（即活性氧），废气通过排风设备输入到UV光解净化设备后，高能UV紫外线光束及臭氧对废气进行协同光解氧化作用，使恶臭气体物质降解转化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通过排风管道排出室外。
等离子体就是处于电离状态的气体，其英文名称是plasma，它是由美国科学 muir，于1927年在研究低气压下蒸气中放电现象时命名的。等离子体由大量的子、中性原子、激发态原子、光子和自由基等组成，但电子和正离子的电荷数必须体表现出电中性，这就是“等离子体”的含义。等离子体具有导电和受电磁影响的许多方面与固体、液体和气体不同，因此又有人把它称为物质的第四种状态。根据状态、温度和离子密度，等离子体通常可以分为高温等离子体和低温等离子体（包子体和冷等离子体）。其中高温等离子体的电离度接近1，各种粒子温度几乎相同系处于热力学平衡状态，它主要应用在受控热核反应研究方面。而低温等离子体则学非平衡状态，各种粒子温度并不相同。其中电子温度( Te)≥离子温度(Ti)，可达104K以上，而其离子和中性粒子的温度却可低到300～500K。一般气体放电子体属于低温等离子体。
应用范围：印刷厂、喷涂厂、印染厂、电子厂、塑料厂、涂料厂、家具厂、炼油厂、橡胶厂、化工厂、造纸厂、皮革厂、农厂、制厂、食品加工厂、饲料厂、养殖厂、屠宰厂、污水处理厂、垃圾中转站等恶臭气体、工业废气的净化处理。
废气处理设备，主要是运用不同工艺技术，通过回收或去除减少排放尾气的有害成分，达到保护环境、净化空气的一种环保设备，让我们的环境不受到污染。
吸收设备
吸收法采用低挥发或不挥发性溶剂对VOCs进行吸收，再利用VOCs和吸收剂物理性质的差异进行分离。
含VOCs的气体自吸收塔底部进入塔内，在上升过程中与来自塔顶的吸收剂逆流接触，净化后的气体由塔顶排出。吸收了VOCs的吸收剂通过热交换器后，进入汽提塔顶部，在温度高于吸收温度或压力低于吸收压力的条件下解吸。解吸后的吸收剂经过溶剂冷凝器冷凝后回到吸收塔。解吸出的VOCs气体经过冷凝器、气液分离器后以较纯的VOCs气体离开汽提塔，被回收利用。该工艺适合于VOCs浓度较高、温度较低的气体净化，其他情况下需要作相应的工艺调整。
光催化是常温深度反应技术。光催化氧化可在室温下将水、空气和土壤中有机污染物完全氧化成无毒无害的产物，而传统的高温焚烧技术则需要在极高的温度下才可将污染物摧毁，即使用常规的催化、氧化方法亦需要几的高温。
从理论上讲，只要半导体吸收的光能不小于其带隙能，就足以激发产生电子和空穴，该半导体就有可能用作光催化剂。常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点，具体研究中可根据需要选用，如CdS半导体带隙能较小，跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易发生光腐蚀，使用寿命有限。相对而言，Ti02的综合性能较好，是广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。