广州集成电路布图设计专有权、芯片知识产权专业律师 －王（金和）律师
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独创性的标准和判断
（1）《条例》关于布图设计独创性的法律规定
《条例》第4条规定，“受保护的布图设计应当具有独创性，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。受保护的由常规设计组成的布图设计，其组合作为整体应当符合前款规定的条件。”该条即是对集成电路布图设计保护要件的规定，布图设计应当具有独创性或者由常规设计组成的布图设计，其组合作为整体应当具有独创性。布图设计的保护条件使用了与著作权法中的作品受保护条件相同的术语——“独创性”。
但是，布图设计的独创性与作品的独创新相比，其内容与涵义有所不同。对著作权而言，独创性应该是指作者独立构思，不抄袭、剽窃他人作品。 因此，作品只要能确定系作者自己的创作成果而非抄袭、复制，则该作品就具备独创性的条件。但对于集成电路布图设计而言，其毕竟带有技术性,必须遵守工程设计原理、方法、规范，甚至采用设计常规。 根据《条例》第4条的规定，布图设计除了为“创作者自己的成果”外，还需“不是公认的常规设计”。这实际上是对创造高度的要求，但这里的创造高度比起专利法中的创造性所要求的高度要低得多。因此对于布图设计独创性的要求可以概括为：布图设计的独创性等于“自己创作”加“非常规设计”。
（2）独创性的体现
虽然布图设计表现为图形，但前面已讨论过，布图设计带有技术性，与著作权领域的图形作品不同。因此，布图设计的独创性与著作权领域的图形作品是有区别的，那么布图设计的独创性究竟体现在那些方面？
已有研究对集成电路布图设计独创性的具体体现进行了总结并指出： 属于概念层次的结构、技术、功能，由于不属于布图设计保护的对象，尚不能体现独创性，在这个概念层次之下的要素，如元件的功能性、选择性、布局性、互连性、组合性、技术参数等要素在不同程度上逐步体现了布图设计的原创性。体现布图设计独创性的要素包括结布图设计中元件的空间布局、元件的连接关系、连接线路排布与走向、元件及线路的尺寸规格等，而不包括布图设计的设计思想、处理过程、操作方法或者数学概念等。
在布图设计侵权案件中,可以将被控侵权人实施的布图设计与权利人的布图设计中体现布图设计独创性的上述要素进行对比,以得出被控侵权的布图设计是否具有独创性而形成新的布图设计,并进而得出被控侵权布图设计与权利人的布图设计是否构成实质性相似的结论。
（3）独创性的判断和侵权认定：美国司法实践的借鉴
美国发生过两起著名的布图设计侵权案例，Brooktree CorporA公司tion V.A公司dvA公司nced Micro Devices,Inc.案 和A公司lterA公司 CorporA公司tion v. CleA公司r Logic IncorporA公司ted案 。这两起案件不但对各国司法实践中如何界定复制侵权和反向工程具有重要的指导意义，而且对如何判断布图设计的独创性以及认定侵权都具有重要的指导意义。
在Brooktree案中,原告Brooktree公司称,其于1987年和1988年分别获得两项掩膜作品 的专有权，含有这两项掩膜作品的芯片具有“调色板”的作用，能够以较高的速度和质量在彩色显示器上生成色彩。Brooktree公司认为，这些芯片在技术上有极大的突破，在速度和操作方面取得了此前难以想象的技术效果，其中一个芯片可以替代A公司MD公司的36个类似芯片，并具有许多其他优越性能。同时，这两个芯片在商业上取得了很大的成功。这些芯片中有一个核心单元，带有十个晶体管的静态存储器。一个芯片中含有6000多个这样的核心单元，占整个芯片区域的80%。每一个核心单元由通过金属导线连接的十个晶体管组成三维多层的结构。Brooktree公司指控A公司MD公司复制了这一核心单元，构成侵权。A公司MD公司则认为,其只复制了上述80%的掩膜作品,没有全部复制,并且其掩膜作品是在反向工程的基础上得出，因此不构成侵权。
在该案审理中,联邦巡回上诉法院认可联邦地方法院提供给陪审团的构成侵权判断标准的指示，侵权作品应与登记的掩膜作品的重要部分实质性相似，要证明侵权成立，Brooktree公司应该证明A公司MD公司的掩模作品与Brooktree公司生产的芯片中所包含的经过登记的掩膜作品的重要部分实质性相似。同时,联邦巡回上诉法院引用了众议院报告指出，掩膜作品有时含有的重要部分即核心单元，具有创造性和商业价值。如果这些核心单元符合独创性条件，那么盗用这些核心单元可以构成侵权。
联邦巡回上诉法院认为，案件中大量的证据显示，通过对包括布图设计中晶体管的位置、晶体管之间的金属连线和及其连接方式、组合方式等的相似性对比，Brooktree公司的掩膜作品具有唯一性和独创性，A公司MD公司的掩膜作品与Brooktree公司的掩膜作品构成实质性相似。虽然两者之间存在不同之处，但法院认可原告证人的主张，即在两个掩膜作品中，相同之处的重要性要大于不同之处的重要性。据此，联邦巡回上诉法院支持了联邦地方法院的判决，认定侵权成立。
在A公司lters案件 中，A公司lters公司认为CleA公司r Logic公司复制了其芯片中晶体管集群组件的位置布置。CleA公司r Logic公司则认为，芯片中晶体管集群组件的位置布置只是一种方法或概念，不受《芯片保护法》的保护，同时也以反向工程进行抗辩。联邦第九巡回上诉法院不认可CleA公司r Logic公司的这一看法，认为晶体管集群组件的位置布置已不属于概念层次，正如证人所述，这些晶体管集群组件已被刻蚀在光刻掩膜中。联邦第九巡回上诉法院进一步论述到，在芯片的制作过程中，随着每一制作步骤的进行，掩膜作品的设计概念在芯片制作过程中逐步得到具体体现，并被终表达在掩膜作品中。芯片中晶体管集群组件的位置布置是光刻掩膜的组成部分。后联邦第九巡回上诉法院认为，掩膜作品中电子组件的选择、组合、安排，包括电子组件的位置安排、方位、晶体管组件之间的相互关系和连线等都受《芯片保护法》的保护。第九巡回上诉法院认同地方法院法官给陪审团的指示，即要求陪审团在进行相似性对比时，既要考虑晶体管的布置，还要考虑芯片中晶体管组合成组件的方式、组件之间的连接线。第九巡回上诉法院认为，通过这样的比对方法，陪审团就可以基于案件的事实判断A公司lters公司芯片中各元素的表达是否具有独创性，以及与CleA公司r Logic芯片中相同元素相比是否构成实质性相似。
在上述两个美国案例中，法院为了判断被控侵权的掩膜作品是具有原创性的新作品还是侵权作品，对受保护的掩膜作品中体现独创性的要素，比如电子组件的选择、组合、安排，包括电子组件的位置安排、方位、晶体管组件之间的相互关系和连线等要素的相似性进行分析，并根据这些要素的相似性的程度以及相似性要素在掩膜作品中的重要程度，来判断被控侵权的掩膜作品是新的具有独创性的掩膜作品还是侵权作品。
我国目前发生的司法案件中，仅在南京中院审理的布图设计侵权案件中,涉及到布图设计独创性的问题，但是独创性问题并非该案的重点，在该案中被一笔带过。该案中，认定布图设计具有独创性的依据是“生产的PT4115芯片含有高压模块隔离环的设计等6项不为公众所知悉的技术信息”， 但对于这六项不为公众所知悉的技术信息到底是哪些信息并未具体说明。这六项技术信息是不是属于集成电路布图设计的保护范围？是否能够体现布图设计的独创性是否可以作为判断布图设计独创性的依据？即使可以作为判断独创性的依据，布图设计中包含的不为公众所知悉的技术信息的数量和技术程度要达到什么标准才能确定布图设计的独创性？该案中都未涉及。对于这些问题的解决，可以参考上述美国司法实践的经验。通过抽象、过滤，再对体现布图设计独创性的要素，比如元件的空间布局、元件的连接关系、连接线路排布与走向、元件及线路的尺寸规格等，进行相似性的对比，当这些要素中在布图设计中具有重要的地位和作用，即使与整体相比，具有相似性的要素比例比较少，只要具有重要地位和作用的部分——核心设计实质性相似或相同，也可认定侵犯了布图设计专有权。
王律师具有深厚的法律理论功底，积累了丰富的办案经验；王律师在办案中善于捕捉案件的关键环节和证据，一招制胜，所提出的独特、宝贵、前瞻的法律意见常被采纳；王律师精辟的法律分析，清晰的办案思路和认真的办案态度获得当事人的好评。
联系人：王金和律师