石墨硅基复合负极材料研磨分散设备，，锂电负极材料研磨分散设备，德国进口高剪切研磨分散机，超高速研磨分散机，管线式研磨分散机，连续式研磨分散机
IKN研磨分散机采用德国博格曼双端面机械密封，在保证冷却水的前提下，可24小时连续运行。而普通分散机很难做到连续长时间的运行，并且普通分散机不能承受高转速的运行
硅材料因具有较高的储理容量（理论比容量4200mAh/g)和丰富的资源，被认为是 开发新一代高比能量及高功率密度的锂离子电池负极材料的理想候选材料之一。然而，硅 负极由于其在锂的嵌、脱循环过程中要经历严重的体积膨胀和收缩，造成材料结构的破坏 和粉碎化，从而导致电极循环性能的衰退，限制了其商业化应用。因此，抑制硅材料的体积 膨胀，提高材料的结构稳定对于提高硅材料的电导率与循环稳定性意义重大。目前主要通 过硅的纳米化、硅与金属的合金化、硅与碳材料的复合来改善硅材料的体积膨胀。
石墨硅基复合负极材料及其制备方法，采用高残碳聚合物材料作为硅基固定化的载体，利用有机高分子微球在高温碳化后的均匀疏松特性，可控设计纳米硅与高分子微球均匀镶嵌的有机无机 组合体，碳化后形成纳米硅与微纳多孔碳网相容的复合材料，该方法可改善纳米硅颗粒在 硅基复合负极材料中的分散性，缓解材料脱嵌锂时的体积膨胀和收缩，增强了材料的结构 稳定性，保证材料具有较高的导电率，提高材料的电化学性能及其循环稳定性能。
上海依肯的研磨分散机特别适合于需要研磨分散均质一步到位的物料。研磨分散机为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到低，保证机器连续24小时不停机运行。
CMD2000系列研磨分散机的结构：研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。
第yi级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验指定工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
从设备角度来分析，影响分散效果因素有以下几点：
1.研磨头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次式要好）
2.研磨头的剪切速率，（越大效果越好）
3.研磨的齿形结构（分为初齿、中齿、细齿、超细齿、越细齿效果越好）
4.物料在分散墙体的停留时间、研磨分散时间（可以看作同等电机，流量越小效果越好）
5.循环次数（越多效果越好，到设备的期限就不能再好了。）
线速度的计算：
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-转子 间距 (m)
由上可知，剪切速率取决于以下因素：
转子的线速率
在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（转子直径）X 转速 RPM / 60
所以转速和分散头结构是影响分散的一个zui重要因素，研磨分散机的高转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是zui重要的