摘要:用于检查处理生产衬底的设备的组件的检查衬底(IW),所述设备例如光刻设备,所述组件例如液体限制系统。检查衬底包括:主体(200),该主体具有与生产衬底相似的尺寸,使得检查衬底与设备兼容;以及传感器,例如成像装置(210)或压力传感器,用于生成检查信息,检查信息关于设备的靠近检查衬底的组件的参数,传感器被嵌入在主体中
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