，下面小编给介绍下有机废气处理是怎么催化燃烧的，进入催化燃烧装置的有机气体首要经过预处理，除去粉尘、液滴及有害组分，避免催化床层的堵塞和催化剂的中毒，能解决问题。目前采用的吸附型活性炭在工业方面的应用主要涉及为尾气吸附和有害气体吸附，大多采用的为柱状活性炭，其中木质柱状活性炭吸附效果较好，被广泛采用，逐渐取代了旧有的煤质活性炭吸附的方式。废气处理设备。有机废气首先经过干式漆雾过滤器去除漆雾，它在催化剂的作用下降低反应的活化能，使其在较低的起燃温度250～350℃下进行无焰燃烧，催化氧化设定的温度，其中一些污染物被氧化分解;废气继续通过加热区（上层，可通过电加热或天然气加热）并保持在设定温度;完成催化氧化反应，即反应形成CO2和H2O，并释放大量的热量来达到理想的治疗效果。在固体催化剂表面有机物质发生氧化，同时产生CO2和H2O，并放出大量的热量，因其氧化反应温度低，然后再进入填充了活性炭的吸附床吸附净化,净化后的气体排入空气，所以大大地抑制了空气中的N2形成高温NOx。而且由于催化剂有选择性催化作用，有可能限制燃料中含氮化合物的氧化过程，使其多数形成分子氮。
适用领域：催化燃烧净化设备可直接应用于中高浓度（100mg/m3-10000mg/m3）的有机废气净化；设备也可应用于活性炭吸附浓缩催化燃烧系统，用于替代催化燃烧和加热器部分。处理技术特别适用于热回收率需求高的场合，也适用于同一生产线上，因产品不同，废气成分经常发生变化或废气浓度波动较大的场合。
概述:催化技术为污染物的治理提供了独特的经济解决办法，有机废气采用催化技术处理具有净化效率高、能耗低、产物为无害的二氧化碳和水，无二次污染。催化净化的效率一般可达97%以上。是高浓度、小流量有机废气的技术。催化燃烧净化法与直接燃烧净化法一样，均属于热力破坏法，其机理都是氧化和热裂解、热分解废气中的有机成分，分解为无毒害的二氧化碳和水。但但对处理高浓度的有机废气，通常认为催化分解是的方法。其原因是催化燃烧的温度要比热焚烧的温度低得多，而且效率高、能耗低、压降小、所需设备体积小、造价低，不产生氮氧化物。我司生产的催化燃烧净化设备可广泛应用于各行业中产生的高浓度有机废气的净化处理，可处理的有机物种类包括苯类、类、酯类、醇类、醚类、烷基类等。
催化分解法已成为净化高浓度有机废气的有效手段，特别适宜治理喷涂、油墨印刷等在烘干过程中排出的高浓度有机废气。因烘干废气温度和有机物浓度都较高，对分解反应及热量回收有利，减少设备运行及投资费用。催化燃烧工业废气净化设备化系统装置组成:催化燃烧的工艺组成不同的排放场合和不同的废气，有不同的工艺流程，不论采取哪种工艺流程，都由如下工艺单元组成。废气预处理为了避免催化剂床层的堵塞和催化剂中毒，废气在进入床层之前必须进行预处理，以除去废气中的粉尘、液滴及催化剂的毒物。
1.废气预处理：为了避免催化剂床层的堵塞和催化剂中毒，废气在进入床层之前必须进行预处理，以除去废气中的粉尘、液滴及催化剂的毒物。
2.预热装置：预热装置包括废气预热装置和催化剂燃烧器预热装置。因为催化剂都有一个催化活性温度，对催化燃烧来说称催化剂起燃温度，必须使废气和床层的温度达到起燃温度才能进行催化燃烧，因此，必须设置预热装置。但对于排出的废气本身温度就较高的场合，如漆包线、绝缘材料、烤漆等烘干排气，温度可达300℃以上，则不必设置预热装置。
催化原理:催化剂定义 催化剂是一种能提高化学反应速率，控制反应方向，在反应前后本身的化学性质不发生改变的物质。催化作用机理 在一个化学反应过程中，催化剂的加入并不能改变原有的化学平衡，所改变的仅是化学反应的速度，而在反应前后，催化剂本身的性质并不发生变化。催化剂本身参加了反应，正是由于它的参加，使反应改变了原有的途径，使反应的活化能降低，从而加速了反应速度。
使用范围：
处理技术特别适用余热回收率需求高，且无其它过程可利用作为热交换回收程序；适用于同一生产线上，因产品不同，废气成分经常发生变化或废气浓度波动较大的场合。应用行业包括石油、化工、橡胶、油漆、涂装、家俱、印制铁罐、印刷等行业中产生的中高浓度有机废气的净化处理，可处理的有机物质种类包括酮类、酯类、酚类、醛类、醇类、醚类和烃类等等。此外还适用于污水处理站的除臭。处理浓度在m3之间的有机废气和臭气。 催化氧化是典型的气-固相催化反应，其实质是活性氧参与的深度氧化作用。在催化氧化过程中，催化剂的作用是降低活化能，同时催化剂可使有机废气在较低的起燃温度条件下，嘉兴废气处理设备，发生无焰氧化，并氧化分解为CO2和H20，同时放出大量热能，从而达到去除废气中的有害物的方法。其反应过程为：在将废气进行化氧化的过程中，废气经管道由风机送入热交换器，将废气加热到催化氧化所需要的起燃温度，再通过催化剂床层使之氧化，由于催化剂的存在，催化氧化的起燃温度约为250-300℃，大大低于直接氧化法的氧化温度650-800℃，因此低能耗远比直接氧化法为低。