利用光伏效应，使太阳光射到硅材料上产生电流直接发电，以硅材料的应用开发形成的光电转换产业链条称之为“光伏产业”，包括高纯多晶硅原材料生产、太阳能电池生产、太阳能电池组件生产、相关生产设备的制造等。由高纯多晶硅拉制成单晶硅棒，再将单晶硅棒切成片，硅片经过成形、抛磨、清洗等工序，制成待加工的原料硅片。
原料硅片先要经过掺杂和扩散， 志盛威华防腐涂料工程师唐工指出，采用丝网印刷做栅线，经过烧结制成背电极，并在有栅线的面涂覆减反射源后，至此单晶硅太阳电池的单体片就制成了。单体片用串联和并联的方法构成一定的输出电压和电流，最后用框架和封装材料进行封装。用户根据系统设计，可将太阳电池组件组成各种大小不同的太阳电池方阵，亦称太阳电池阵列。
其中，硅片清洗剂广泛应用于光伏、微电子等行业硅片清洗，由于原料硅片在运输过程中会有所污染，表面洁净度不是很高，对后续工艺产生很大的影响，所以先要对硅片表面进行一系列的清洗操作。清洗的一般思路首先是去除表面的有机沾污，然后溶解氧化膜，因为氧化层是"沾污陷进"，会引起外延缺陷；再去除颗粒、金属等，同时使硅片的表面钝化。
目前多采用传统的RCA清洗方法，不仅可以去除硅片表面的金属、有机物等，还可以去除小颗粒等污染物。RCA湿法清洗通常由两种不同的化学溶液组成，即SPM和DHF。SPM主要包含硫酸和过氧化氢，清洗温度再120-150℃，具有很高的金属氧化能力，志盛威华防腐涂料工程师讲到可将金属氧化后溶于清洗液中，并能将有机物氧化生成二氧化碳和水。
用SPM清洗硅片可以去除表面的种有机沾污和部分金属，当沾污特别严重时，难以去除干净。DHF(HF)，主要是10%HF，可以去除硅片表面的自然氧化膜，同时抑制氧化膜的形成。易去除硅表面的Al、Fe、Zn、Ni等金属，也可以去除自然氧化膜上的氢氧化物。在自然那氧化膜被腐蚀掉时，硅片几乎不被腐蚀。此外，改进的RCA清洗溶液中还含有低于20%的氢氧化钠或氨水，以及少量的氯离子。
光伏产业的硅片清洗废水会含有大量HF、过氧化氢、酸或碱（包含硫酸、盐酸、氢氧化钠或氨水）等。由于氢F酸中的氟离子的半径很小，这导致它有很强的渗透性，致密的氧化物也不能阻止它的渗透，同时具有无机酸的腐蚀性，在防腐行业里，腐蚀性极强，腐蚀介质渗透率高，是最难防腐的物质。此外，大量的过氧化氢，具有强氧化性，会加强酸或碱的腐蚀性。
针对以上情况，可选用北京志盛威华化工有限公司的重防腐涂料，ZS-1033耐H氟酸防腐涂料和ZS-1032耐强氧化防腐涂料，这两种涂料是针对HF和强氧化酸碱腐蚀专门研发的，具有针对性和专用性。