1. 简介：
所谓表面：指固体最外层1-10个原子的表层或一种物质与另一种物质的界面，或附在物体表面的覆盖层。
一般来说：体相>100nm，薄膜10-100nm，表面1-10nm。
表面分析法主要指利用一种探测术一如电子束、离子束、光子束、中性粒子束等，作辐射源轰击样品，使样品受激发放出二次粒子，测量二次粒子的能量和性质。
测定物质表面的平均成分，给出原子指数。
材料表面的化学组成（定性、定量、分部）化学状态（原子状态、化学阶态、电子状态等）
测定原子阶态 原子和电子所处的能级（电子结构）
确定分子结构
2. 主要的表面分析方法：
根据激发源的不同，分为：
X射线光电子能谱（简称XPS）（X-Ray Photoelectron Spectrometer）
紫外光电子能谱（简称UPS）（Ultraviolet Photoelectron Spectrometer）
俄歇电子能谱（简称AES）（Auger Electron Spectrometer）
次级离子质谱（SIMS）（Secondary Lon Mass Spectrometer）
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名称 |
简称 |
发射源 |
分析粒子 |
逸出深度 |
主要用途 |
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X射线光电子能谱 |
XPS |
X射线 |
光电子 |
～10nm |
成分、化合态 |
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紫外光电子能谱 |
UPS |
紫外光 |
紫外线 |
<1nm |
分子及固体电子态 |
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俄歇电子能谱 |
AES |
X射线或电子束 |
俄歇电子 |
0.4-2nm |
成分 |
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次级离子质谱 |
SIMS |
离子束 |
被激发出的二次离子的质量 |
～10nm |
微区成分 |