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上海伯东代理美国原装进口 KRI 线性离子源使用 eH 400 做为模组, 能应用于宽范围的衬底, 离子源长度高达 1 米, 通过严格调整模组间的距离可以实现好的均匀性和离子流. 由于模组是平行放置, 大大简化了气体, 功率和电子三者的分布. KRI 线性离子源使用标准的端部霍尔模组并使设备的需求简化, 一个低成本, 高电流和低能量的离子束可以很好的使用于 web 涂层, in-line 沉积和圆柱旋转溅射系统.
霍尔离子源 eH 400 尺寸
尺寸: 直径= 3.7“ 高= 3”
放电电压 / 电流: 50-300eV / 5A
操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体
KRI 霍尔离子源 eH Linear 技术参数
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型号 |
eHL400-2/ eHL400-3/ eHL400-4/ eHL400-5 |
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供电 |
DC magnetic confinement |
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- 电压 |
40-200V VDC |
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- 阳极结构 |
模块化 |
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电源控制 |
eHL-30010A |
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配置 |
- |
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- 阴极中和器 |
Filamentless |
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- 离子束发散角度 |
> 45° (hwhm) |
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- 阳极 |
标准或 Grooved |
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- 底座 |
移动或快接法兰 |
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- 高度 |
10 cm |
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宽度 |
10 cm |
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- 长度 |
~ 100cm |
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-工艺气体 |
Ar, Xe, Kr, O2, N2, Others |
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Model |
eHL 200-3 |
eHL 200-5 |
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Height (nominal) |
2.9” (7.4cm) |
2.9” (7.4cm) |
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Width (nominal) |
3.3” (8.4cm) |
3.3” (8.4cm) |
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Length (nominal) |
Determined by number of modules & application |
Determined by number of modules & application |
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Cathode/Neutralizer |
Yes |
Yes |
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Anode module |
Yes |
Yes |
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Filamentless |
Yes |
Yes |
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Orientation |
Vertical / Horizontal |
Vertical / Horizontal |
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Process gases |
Inert, reactive, & organic |
Inert, reactive, & organic |
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Power controller |
eH Plasma Power Pack |
eH Plasma Power Pack |
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1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
若您需要进一步的了解产品详细信息或讨论, 请联络上海伯东邓女士, 分机134