KT—Z1650CVD是一款小型台式溅射功率可控磁控溅射仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压，电流反馈，样品台旋转，样品高度调节及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率，可对大部分金属进行均匀物理沉积，真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜和有机物薄膜。
小型蒸镀仪郑州科探仪器技术资料
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控制方式
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7寸人机界面 手动 自动模式切换控制
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加热方式
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数字式功率调整器
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镀膜功能
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0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序
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功率
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≤1200W
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输出电压电流
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电压≤12V 电流≤120A
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真空度
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机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤10^-3Pa
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挡板类型
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电控
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真空腔室
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石英+不锈钢腔体φ160mm x 160mm
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样品台
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可旋转φ62 （可安装φ50基底）
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样品台转速
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8转/分钟
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样品蒸发源调节距离
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70-140mm
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蒸发温度调节
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≤1800℃
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支持蒸发坩埚类型
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钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 钨舟 碳绳
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预留真空接口
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KF25抽气口 KF16真空计接口 KF16放气口 6mm卡套进气口
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可选配扩展
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机械真空泵（可抽真空 5分钟＜5Pa） 数显真空计（测量范围大气压到0.1Pa） 分子泵机组（可抽真空20分钟≤5x10-3Pa）
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