HYDRON® SE 220 专为半导体电子设计的 pH中性助焊剂清洗液 助焊剂清洗剂 HYDRON® SE 220是一款水基型单相清洗液,专门设计用于浸没式清洗工艺。HYDRON® SE 220能够有效去除芯片黏着后引线框架、分立器件、功率模块、功率LED等多种半导体电子器件上的助焊剂残留,对于倒装芯片、CMOS等器件也有卓越的清洗效果。 相较于其他清洗液的优势: 由于其独特的单相配方,HYDRON® SE 220能在浸没式清洗工艺中提供卓越的清洗结果。同时,可以轻松用去离子水进行漂洗,且漂洗后不会有任何残留 该产品的pH呈中性,因此具有极佳的材料兼容性,特别不会对芯片表面的钝化层造成影响 HYDRON® SE 220能够提供洁净、被激活的铜表面,能使铜表面在短暂时间内保持在理想状态,为后续邦定、成型、黏胶等工艺做好准备 HYDRON® SE 220无闪点,可使用在浸没式清洗设备中,且无需防爆保护 不含卤素成分,气味低 应用领域 去除污染物 清洗工艺 清洗技术 功率电子器件清洗 SiP封装清洗 晶圆级封装清洗 MEMS器件封装清洗 摄像模组清洗
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