直流式磁控溅射仪KT-Z1650PVD水冷式溅射源，可实现高功率持续运行，有电压 电流反馈,样品台旋转，样品高度调节，及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率，可对大部分金属进行均匀物理沉积，真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜。
电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛伦兹力的影响，被束缚在靠近靶面的等离子体区域内，该区域内等离子体密度很高，二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动，该电子的运动路径很长。
直流式磁控溅射仪KT-Z1650PVD厂家供应技术参数；
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控制方式 |
7寸人机界面 手动 自动模式切换控制 |
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溅射电源 |
直流溅射电源 |
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镀膜功能 |
0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序 |
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功率 |
≤1000W |
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输出电压电流 |
电压≤1000V 电流≤1A |
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真空 |
机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤5*10^-3Pa |
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溅射真空 |
≤30Pa |
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挡板类型 |
电控 |
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真空腔室 |
石英+不锈钢腔体φ160mm x 170mm |
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样品台 |
可旋转φ62 （可安装φ50基底） |
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样品台转速 |
8转/分钟 |
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样品溅射源调节距离 |
40-105mm |
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真空测量 |
皮拉尼真空计（已安装 测量范围10E5Pa 1E-1Pa） |
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预留真空接口 |
KF25抽气口 KF16放气口 6mm卡套进气口 |
