磁控溅射镀膜机是一种常见的金属薄膜制备设备，采用磁场使靶材中的金属离子溅射到基片上，从而形成金属薄膜。它不仅可以制备单层金属膜，还可以用于合金、多层膜和复合膜等工艺。磁控溅射镀膜机的优点是薄膜制备速度快，制备效果良好，适用于不同形状和大小的基片。广泛应用于电子、光电、半导体和纳米科技等领域。
真空蒸发镀膜机是一种通过加热材料让其蒸发并沉积在基板表面形成薄膜的技术。该设备操作简单、制备工艺成熟，广泛应用于金属、二氧化硅、氧化锌和有机聚合物等材料的薄膜制备。真空蒸发镀膜机的优点是可以制备各种样品的薄膜，并且可以通过控制沉积速度来获得良好的膜厚均匀性。
