小型高温真空镀膜仪KT-Z1650CVD
是一款小型多功能镀膜仪，额定1800度高温，自动样品挡板，靶台旋转，触摸屏多段控制，工艺储存等功能。
真空蒸发镀膜包括以下基本过程：
（1）加热蒸发过程：包括由凝聚相转变为气相的过程，每种蒸发物质在不同的温度有不同的饱和蒸气压。
（2）气态原子或分子在蒸发源与基片之间运输，即原子或分子在环境气氛中的飞行过程。
（3）蒸发原子或分子在基片表面张得沉积过程。即是蒸发，凝聚，成核，核生长，形成连续的膜。由于基板温度远低于基板温度远低于蒸发源温度，因此，气态分子在基片表面将发生直接由气态到固态的相转变过程。
技术参数
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控制方式 |
7寸人机界面 手动 自动模式切换控制 |
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加热方式 |
数字式功率调整器 |
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镀膜功能 |
0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序 |
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功率 |
≤1200W |
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输出电压电流 |
电压≤12V 电流≤120A |
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真空度 |
机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤10^-3Pa |
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挡板类型 |
电控 |
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真空腔室 |
石英+不锈钢腔体φ160mm x 160mm |
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样品台 |
可旋转φ62 （可安装φ50基底） |
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样品台转速 |
8转/分钟 |
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样品蒸发源调节距离 |
70-140mm |
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蒸发温度调节 |
≤1800℃ |
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支持蒸发坩埚类型 |
钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 钨舟 碳绳 |
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预留真空接口 |
KF25抽气口 KF16真空计接口 KF16放气口 6mm卡套进气口 |
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可选配扩展 |
机械真空泵（可抽真空 5分钟＜5Pa） 数显真空计（测量范围大气压到0.1Pa） 分子泵机组（可抽真空20分钟≤5x10-3Pa） |
