刻蚀机是一种用于制造微细结构的设备，常见于半导体、光学和电子工业中。它通过将化学反应物和物理能量相结合，去除材料表面的一部分，从而创建所需的微细结构。刻蚀机在芯片制造过程中扮演着关键角色，与光刻机紧密相连，共同完成电路图的刻画和形成。刻蚀机的技术包括湿法刻蚀和干法刻蚀两种主要类型。
湿法刻蚀主要利用化学溶液通过化学反应达到刻蚀的目的，这种方法各向异性较差，侧壁容易产生横向刻蚀，造成刻蚀偏差，通常用于工艺尺寸较大的应用或作为干法刻蚀后清洗残留物。 干法刻蚀则通过物理撞击作用移除材料，纳米级别的材料表面刻蚀广泛应用于RF射频器件、MEMS传感器、磁性器件等，满足研发和量产需要。