常州科纳达新材料自主研发生产的氧化铈抛光液是以纳米级氧化铈粉末为磨料的氧化铈研磨液，又称氧化铈分散液，具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。这使得它能够在抛光过程中有效去除材料表面的微观不平整，同时保持较低的磨损率。
氧化铈抛光液KND-SF30的特点
高切削力与精密抛光：氧化铈抛光液在保持高切削力的同时，能达到精密的抛光效果。
软硬度适中：其软硬度适中，不会划伤被抛光面。
分散性好：抛光液中的氧化铈微粒分散性好，粒度细且分布均匀，极大提高了抛光效率和精度。
稳定性高：抛光质量稳定，粒度可控，颗粒度分布集中。
悬浮性好：不易沉淀，使用方便。
使用寿命长：氧化铈抛光液具有较长的使用寿命，减少了更换抛光材料的频率。
氧化铈抛光液KND-SF30的作用
高效去除表面不平整：氧化铈抛光液通过其微粒与工件表面的相互作用，能够迅速去除表面的微观不平整，如划痕、凹坑和粗糙度等。这种高效的去除能力使得氧化铈抛光液在光学玻璃、半导体晶片、陶瓷等高精度材料的抛光过程中得到广泛应用。
提高表面光洁度：使用氧化铈抛光液抛光后，工件表面能够达到极高的光洁度，从而满足精密仪器和设备的性能要求。光洁度的提高不仅有利于降低摩擦和磨损，还能提高产品的光学性能和热稳定性。
降低加工成本：一方面，氧化铈抛光液具有较长的使用寿命，减少了更换抛光材料的频率；另一方面，其高效的抛光能力减少了加工时间，提高了生产效率。
改善加工环境：氧化铈抛光液在使用过程中产生的粉尘和废液较少，有利于改善加工环境。此外，氧化铈抛光液还具有环保性，不会对环境和人体健康造成污染和危害。
氧化铈抛光液KND-SF30的应用领域
光学玻璃抛光：在光学玻璃制造过程中，氧化铈抛光液被广泛应用于镜片和棱镜的抛光。通过调整抛光液的浓度、温度和压力等参数，可以实现高精度和高效率的抛光过程，从而获得具有高光学性能的玻璃产品。
半导体晶片抛光：在半导体制造过程中，氧化铈抛光液被用于对晶片进行抛光处理。通过去除晶片表面的杂质和缺陷，提高晶片的光洁度和平整度，从而确保半导体器件的性能和可靠性。
陶瓷抛光：陶瓷材料具有硬度高、耐磨性好等优点，但在加工过程中容易产生划痕和凹坑等缺陷。使用氧化铈抛光液对陶瓷进行抛光处理，可以有效去除这些缺陷，提高陶瓷制品的外观质量和使用性能。