HL-86高填平光亮镀镍工艺
一、发适用范围和特点
1、出光速度快、填平能力优异；
2、镀层整平性好，消耗量少；
3、工艺操作范围宽，出光快乌亮型直上镍补充两种光亮剂，便于工艺调整和维护管理。
二、发配方及工作条件
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原料及操作条件 |
范 围 |
值 |
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硫酸镍 g/L |
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280 |
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氯化镍 g/L |
40-60 |
50 |
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硼酸 g/L |
40-50 |
45 |
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HL-86主光剂 ml/L |
0.3-0.7 |
0.5 |
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HL-86柔软剂 ml/L |
4-6 |
5 |
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HL-镀镍润湿剂 ml/L |
1.0 |
1.0 |
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pH值 |
4.0-4.8 |
4.5 |
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温度 |
50-60℃ |
55℃ |
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阴极电流密度 A/dm2 |
2-8 |
4 |
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搅拌 |
空气或机械 |
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过滤 |
连续 |
三、发镀液配制
1. 发加入2/3配槽体积的水，加热至60～65℃，加入所需的硼酸、硫酸镍和氯化镍，搅拌至全部溶解；
2. 发 必要时加入1～2ml/l双氧水(30%)，搅拌1小时，提高液温至65～70℃，保温2小时，以除去残余的双氧水。否则会引起低电区漏镀和出现针孔；
3. 发加入化学纯活性炭1～2g/L，搅拌1小时后过滤；
4. 发加水至规定体积，用瓦楞形铁板小电流(0.6～1A/ dm2)电解处理2～3小时，若镍盐中铜、锌杂质过多，则用低电流（0.2～0.4A/dm2）电解处理18～24小时左右，直至镀层不发黑为止；
5. 发加入镀镍添加剂后，小电流(0.8～1A/dm2)电解处理约10分钟，即可试镀。
注：若是优质镍盐和硼酸，则不必进行双氧水和活性炭处理。