本試驗法適用於評估表面處理件之品質及均勻性。
限制
本試驗法不同於一般鹽霧腐蝕試驗。
本試驗法不適用於評估試件是否可於鹽霧環境下使用。
對於元件及裝備，"IEC 試驗方法Kb：循環式鹽霧試驗"較能提供真實之鹽霧環境。但如相關規範要求以本試驗法執行鑑定試驗，則試件必須以裝備或組件型態(連同保護裝置)執行試驗。
測試步驟
試件於試驗前應依相關規範之規定執行目視檢查、電性及機械檢驗。
相關規範中應詳述試驗前試件之清潔程序，且應敘述是否除去暫時之保護層。
將試件移入鹽霧櫃內，並保持在溫度35℃，鹽霧濃度5%之測試條件下，依規定之駐留時間執行試驗。
除相關規範另有規定，試驗後小試件應於水龍頭下沖水5分鐘，並以蒸餾水或礦泉水洗滌後，以手搖動或鼓風機去除水份，用於清洗之水溫不可高於35℃。對於大試件則應於相關規範中規定清洗及吹乾之方式。
將試件置於標準大氣條件下約1～2小時，以回復原來狀況，再進行目視檢查、電性及機械檢驗。
測試條件
測試條件可由下選擇適當之試驗要求或依相關規範之規定。
鹽霧濃度：5%
試驗溫度：35℃
噴霧量：1～2毫升/小時/80平方公分
酸鹼值：6.5～7.2(溫度為35±2℃時之pH值)
駐留時間：6，672小時。
試驗容差：鹽霧濃度±1%，試驗溫度±2℃。
試驗設置
試驗櫃之體積必須夠大，使周遭之測試條件保持均勻、穩定且不因放置試件而受影響。
試驗櫃應正確通風，以避免櫃內壓力增加。排氣口應避免強風吹襲，以免櫃內產生強烈氣流。
試件必須依相關規範之規定以正常操作姿態執行試驗。
所有之試件必須避免相互接觸或接觸其他金屬，且安排上不可相互影響。
試件放置位置，應不致直接受到噴霧，且凝結於櫃壁上之水滴不可落於試件上。
其他
試驗使用之鹽粒為高品質之氯化鈉，當乾燥後碘化鈉含量須少於0.1%，雜質須少於0.3%。
使用過之鹽水溶液不可再重複使用。
噴口附近空氣之相對濕度至少在85%以上，以避免噴霧器被鹽粒子阻塞。
試驗前儘可能避免以手觸摸試件表面，且用於清潔試件之方法，不可與鹽粒子產生反應或對試件產生二次腐蝕。
鹽霧櫃內至少應放置兩個底面積為80平方公分之收集器，於試驗後計量試驗中平均之噴霧量(16小時以上之平均值)是否符合規定。收集器放置之位置不可受試件遮蔽且必須在無凝結水滴落下之位置。
如果試驗櫃連續使用時，則應於每次試驗後計量試驗中所收集之噴霧量、濃度及酸鹼值(pH值)是否符合規定。
如果試驗櫃並非連續使用，則在試驗執行前應先以空櫃開機測試16～24小時，並確認噴霧量、鹽水濃度及酸鹼值(pH值)符合需求後，再將試件置入，並於試驗後計量試驗中所收集之噴霧量、濃度及酸鹼值(pH值)是否符合規定。
若酸鹼值(pH值)未符合規定，可以適量之鹽酸或氫氧化鈉調整至所要求之範圍內。