产品名称 1200℃管式炉CVD系统 产品型号 TN-D3F型 产品简介 广泛用于各种反应温度在1100℃左右的CVD实验，也可用于：真空烧结、真空气氛保护烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多研究领域。 TN-D3F型1200℃管式炉CVD系统 该仪器可广泛用于各种反应温度在1100℃左右的CVD实验，也可用于：真空烧结、真空气氛保护烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多研究领域。 技术参数：  1 产品名称 1200℃管式炉CVD系统  2 产品型号 TN-D3F型  3 显示模式 高亮数码管显示(LED)  4 炉膛模式 封闭式  5 炉膛材料 进口纤维  6 加热元件 进口合金加热丝  7 极限温度 1200℃  8 工作温度 ≤1150℃  9 升温速率 ≤20℃(建议:10℃/min)  10 加热温区 单温区  11 温区长度 200mm  12 恒温区长 100mm  13 炉管材料 高纯石英管  14 密封方式 真空法兰  15 气密性 真空法兰和刚玉炉管的气密性可达4.03×10-3Pa  16 测温元件 K型热电偶  17 控温精度 ±1℃  18 气体通道 可连接3种气源  19 电源 220v 50Hz～60Hz