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依肯机械胶体磨它综合了均质机、球磨机、三辊机、剪切机、搅拌机等机械的多种性能，具有优越的超微粉碎、分散乳化、均质、混合等功效。物料通过加工后，粒度达2～50微米，均质度达90%以上，是超微粒加工的理想设备。
沉淀法白炭黑（硅橡胶级）:本产品是制造硅橡胶用超细白炭黑的母料，又分高比表和低比表两种型号，高比表面积，应用于高温硫化硅橡胶（如：按键、透明硅橡胶件、耐高低温高压密封圈等）；低比表面积，应用于室温胶（如：玻璃胶、密封胶等）
胶体磨由电动机、连接体、磨头等组成，磨盘采用优质不锈钢锻压制成，磨盘表面有三个以上沟槽，分为三级。每一级的沟槽刀齿数量、方向及宽度不同，越是 向外延伸一级，磨片精度越高、齿距越小、线速度越长、物料越磨越细、刀齿的数量越多、剪切面越大、线速度越长、流体速度越快、细化效果越好。
转子与定字可根据物料粘度、产量、颗粒细度进行手工调节，其功效为剪切率大、线速度长、无死角、处理量大、均质细化效果好。
胶体磨内部结构及分析：
粉碎室设有三道磨碎区，一级为粗磨碎区，二级为细磨碎区，三层为超微磨碎区，通过调整定、转子的间隙，能有效地达到所需的超微粉碎效果（也可循环加工）。
混合区：首先将物料通过混合搅拌装置进行高速混合，在混合过程中用螺旋混合浆叶使物料在高速运转中的到充分混合均质后送料给下道工艺；
剪切区：物料进入剪切区后，由于上道工序只把物料进行混合，没有把物料进行大颗粒破碎，这个问题由高剪切机来完成，该剪切区由三层数百条刀槽组成，将大的粘团结块等易碎颗粒进行剪切破碎。
研磨区：研磨区是由凹凸胶体磨组成，转定子切有许多中齿及细齿组成，将已剪切的小颗粒进行深化研磨，研磨时可调距离为0.01~3mm；
1、 有较强的混合、粉碎、研磨、输送功能；
2、 可使用较硬的各类易碎颗粒；
3、 可同过调节定转子间隙进而调节循环研磨所需时间；
4、 定、转子间歇可以调节，调节距离为0.01~3mm，可降低启动负荷，从而减少能耗
5、 转、定子材料可选用2cr13 9cr18 2205进行氮化处理货渗碳化钨处理。
胶体磨在设计上的突出优点在于：
1、转速14000rpm，相较其它厂家2900转左右高出约三倍：
2、磨头结构更精密并有独特设计,使之研磨作用力更大，效果更好。
3、德国进口双端面机械密封拥有独特结构和特殊材质保证高速运转和长使用寿命。
4、CM2000/4中试型研磨机与大型工业管线式量产机型配置基本相同。各种工作头的种类及相应线速度相同，中试过程中的工艺参数在工业化后之后不用重新调整，从而将机器型号升级到工业化的过程中的风险降到更低。
胶体磨特点：
CM2000系列是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。CM2000的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求
胶体磨的研磨细度和产量可以调节，物料在胶体磨中的研磨指数与下列因素有关：
1.物料的成熟度。成熟度高的，易于研磨。
2.胶体磨磨头轴的转速即线速度，转速快，则物料的研磨时间短。
3.物料直径。直径大的，打碎的程度差。
4.有效面积系数。系数大，物料研磨时间亦短。
5.导呈角大小。导呈角大的，物料在胶体磨中停留的时间亦短。
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