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郑州企业进口一批二手硅晶圆设备双清报关公司

  • 发布时间:2025-01-14 18:44:18
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    作为电子行业二个不可或缺的设备生产线,处理领先地位的有:美国,德国,日本,韩国,欧洲,中国台湾等。内地需要生产半导体的加工厂,一般都是通过这几个国家和地区进口过来的。一般多为二手生产设备。

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    目前合晶为全球前十大半导体硅晶圆材料供货商,主要产品为抛光硅晶圆与磊晶硅晶圆;抛光硅晶圆客户包括台积电、联电、世界先进等晶圆代工厂,而磊晶硅晶圆客户则以电源管理与模拟IC厂为主,包括力士、大中、富鼎。合晶拥有四~八吋硅晶圆,生产基地分别为八吋的龙潭厂、六吋的杨梅厂,上海合晶厂为四~六吋,上海晶盟厂则是大中华区zui大半导体磊晶厂。

      

      近年因日系大厂相继关闭厂房及缩减产能影响,导致市场对八吋晶圆处于供不应求局面,加上中国大陆一堆新设立的半导体厂陆续完工,需要大量硅晶圆来「练兵」,今(2016)年将是半导体硅晶圆八年来zui好的一年。

      

      今年首季硅晶圆报价正式起涨(约10%),第二季在供需失衡下,可望再上涨15~20%,由于各硅晶圆大厂受过去多年报价下跌影响,目前并无明显扩产计划,而拜中芯、华虹等陆资厂出手抢货,甚至韩国三星也来台抢十二吋硅晶圆,可想而知,硅晶圆价格涨势在第三季势必更大。

      

      为加速拓展大陆市场,合晶亦宣布将引进陆资参与旗下上海合晶现金增资案,将在河南郑州兴建八吋厂,预计2018年达到月产能五万片的规模,来年进一步拉高到二十万片。

      

      此外,智能手机带动指纹辨识需求,合晶CMOS产品已开始出货,加上旗下蓝宝石厂亏损认列在去年告一段落,有助今年获利提升。

      

    半导体制程不断微缩,让新一代芯片的性能、功耗得以有更好的表现,但制程微缩却也使得制程中的污染物控制受到更严格的考验。对此,特用材料供货商英特格(Entegris)近期发表Oktolex薄膜技术,其针对各种化学品的需求,强化各种薄膜原本的拦截机制,进而使该薄膜技术得以过滤光化学污染物,目前主要市场锁定在逻辑、DRAM和3DNAND装置的ArF、KrF和EUV光微影技术。

      

      英特格总经理谢俊安表示,随着奈米制程的精进与EUV的导入,让半导体的制程变得更为复杂,在控制污染粒子(Particles)方面,也显得更为困难。当半导体制程线宽变得越来越小,原本不会对制程造成影响的污染粒子,如今也必须设法控制,才能确保半导体制造的良率。而英特格提供的解决方案,便致力于防止这些污染粒子跑到线路上。举例来说,过去英特格仅须控制20奈米大小的污染粒子,但在制程越做越小的情况下,现在英特格必须设法控制10奈米,甚至更细小的污染粒子,因此相对应的技术都必须随之提升。

      

      此外,先进制程的曝光次数增加,也使得污染控制变得更为复杂。相较于以往28奈米制程仅须使用浸润式曝光机(ImmersionScanner)进行1次曝光,10奈米制程的曝光次数已经提高为4次。

      

      有鉴于此,英特格近日在SEMICONTaiwan展会上,发表创新的Oktolex薄膜技术,这项技术可应用在先进的使用点光微影技术上。Oktolex革命性的薄膜可针对各种化学品的需求,强化各种薄膜原本的拦截机制,以过滤光化学污染物。Oktolex薄膜将薄膜特性,与特定污染物的吸收机制作匹配,进而可将薄膜的过滤效能优化,且不会与化学品的组成产生不良反应。

      

      英特格微污染物防治部资深副总裁兼总经理ClintHaris表示,我们打破传统,开发出更干净、速度更快且更的方式,来过滤多数高挑战性的污染物,这种针对特定污染物控制需求的特殊方法,可用在逻辑、DRAM和3DNAND装置的ArF、KrF和EUV应用上。

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