产品名称：
产品简介：电子行业对水中的离子含量要求非常高，本系统采用先进的反渗透技术，结合尖端的EDI，混床技术，使产水水质可达18.25兆欧，水质符合美国ASTM标准。目前我国电子工业部把电子级水质分为五个行业标准，分别为18MΩ.cm，15MΩ.cm，10MΩ.cm，2MΩ.cm和0.5MΩ.cm，以区分不同水质.
技术参数：
产水水质：水质符合美国ASTM标准，电子工业部超纯水水质标准18MΩ•cm，15MΩ•cm，10MΩ•cm，2MΩ•cm和0.5MΩ•cm五级
产水水量：0.5-100TH
材 质：玻璃钢，不锈钢，有机玻璃等
工艺流程：
1、预处理→反渗透→水箱→阳床→阴床→混床→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→精制混床→精密过滤器→用水对象
2、预处理→一级反渗透→加药泵( PH调节)→中间水箱→二级反渗透→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5 μ m精密过滤器→用水对象
3、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5 μ m精密过滤器→用水对象
4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→精制混床→0.2或0.5 μ m精密过滤器→用水对象
主要特点：
该系统一切动作均在预设程序下自动进行，具备全自动功能。
系统结构布置紧凑，有效节约空间。
系统能耗低，制水成本低廉。
系统运行安全可靠，供水管路封闭，出水水质稳定。
适用范围：
生产半导体、光伏太阳能、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件等电子工业用超纯水系统