光催化氧化设备活性炭吸附装置

复合光催化设备

复合光催化设备设计需满足：

1．空塔流速≤1.4m/s；

2．废气在光催化氧化区域有效停留时间≥2.0s

3．催化剂采用二氧化钛泡沫镍光触媒滤网形式，厚度10mm，孔隙率95%-98%，面密度2000g/cm³，催化面积≥13㎡；

4．发生设备前段至少设计一层除雾过滤器来去除经碱洗段后废气中的水雾以保证UV紫外灯的正常使用寿命；

5．设备采用SUS304材质制造；（外壳厚度≥1.5mm，门及内支撑材质≥1.2mm）

6．84条双波段U型石英UV灯管，L=810mm，150w/条。

  活性炭吸附设备

活性炭设备设计需满足：

1.  空塔流速≤0.3m/s；

2.  废气在活性炭吸附区域有效停留时间≥1s；

3.  活性炭过滤面积≥16.8m²；

4.  活性炭可装填量≥5.0m³；

5.  活性炭吸附设备采用上装下卸或更优设计，方便更换活性炭；

6.  设备采用SUS304材质制造；（外壳厚度≥1.5mm，门及内支撑材质≥1.2mm）

7.  层间风速≤6m/s；