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氢氧化镁阻燃剂湿法研磨分散机

  • 发布时间:2024-12-16 09:28:03
    报价:面议
    地址:上海,松江,上海市松江区九亭镇九新公路865号2幢101室-1
    公司:上海依肯机械设备有限公司
    手机:18201891183
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    用户等级:普通会员 已认证

    氢氧化镁阻燃剂湿法研磨分散机,氢氧化镁机械法湿磨机,阻燃剂氢氧化镁湿法研磨机,超细氢氧化镁湿法粉碎机

         氢氧化镁是一种白色无定型或结晶型无机化合物,不溶于水,易溶于酸。近年来随着对无卤阻燃剂的需求量的增大,氢氧化镁作为无机阻燃剂的优点尤为突出,它受热时会分解产生水分,并且吸收大量的热量,可迅速降低可燃材料表面的温度,降低了产生可燃性物质的可能。氢氧化镁阻燃剂具有分解温度高,分解后产生水,同时氢氧化镁分解生成的氧化镁又是良好的耐火材料,也能帮助提高合成材料的抗火性能,同时它放出的水蒸气稀释了易ran气体和氧气浓度,阻断了火灾必要条件,延缓了火灾的发生,氢氧化镁与同类的无机阻燃剂相比,具有更好的抑烟效果。
         氢氧化镁作为阻燃剂必须要求纯度要高,并且纯度越高,阻燃效果越好;实验证明粒径越小且粒径分布范围窄的氢氧化镁作为阻燃剂填充到材料中时,各方面性能包括阻燃效果、消烟和机械性能都比普通氢氧化镁优越;大量研究报道氢氧化镁微观形貌为六角片状或针状结构作为阻燃剂要比其他形貌阻燃效果显著;当氢氧化镁表面性低时,颗粒积聚成团性降低,在材料中分散性和相容性增加,对材料机械性能影响减少。只有具备以上特性的氢氧化镁才能和材料比较好的相容,才能作为阻燃剂添加到高聚物中。
          工业氢氧化镁具有颗粒大、粒度分布宽、团聚现象严重、产品的分散性能较差,且性较高的缺点,无法满足阻燃别的使用,但可以利用工业氢氧化镁进一步制备阻燃剂用氢氧化镁。 通过IKN湿法研磨分散机制取的阻燃剂氢氧化镁,解决了现有技术工业氢氧化镁制备阻燃剂氢氧化镁中存在的对原料粒径要求高、成本高、终产物粒径分布宽的问题。
          工业氢氧化镁为原料制备阻燃剂氢氧化镁:将工业氢氧化镁原料和水混合后进行研磨,得到氢氧化镁料浆; 通过机械湿磨的方式进行研磨,湿磨得到平均粒径为0.2-0.8μm的氢氧化镁料浆。 从而解决了从工业氢氧化镁制备阻燃剂氢氧化镁的难题,使用原料为工业氢氧化镁,因此本设备制备的阻燃剂氢氧化镁相对于用传统工艺制备的阻燃剂氢氧化镁的纯度高,分散性更好。并且对作为原料的工业氢氧化镁的粒径要求为30-60μm,故对原料粒径要求较低。 制得粒径小,粒径分布窄,分散性好,形貌规则的六角片状氢氧化镁阻燃剂。 且不需要除了工业氢氧化镁和水以外的其他添加物,原料廉价易得,生产成本低。 终制得的作为阻燃剂的氢氧化镁粒径小且粒径分布范围窄,形貌规则可控为规则六角片状,分散性更好,与高聚物更易相容。
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         氢氧化镁阻燃剂湿法研磨分散机工作原理:上海依肯CMSD2000系列研磨分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品,先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子,好的表面处理和优良的材料,可以满足不同行业的多种需求。通过研磨分散机定转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效的乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果,出料粒径可以微纳米。


    影响研磨粉碎均质结果的因素有以下几点

    1 研磨头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次好)

    2 研磨头的剪切速率  (越大,效果越好)

    3 研磨头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)

    4  物料在分散墙体的停留时间,乳化分散时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)

    5 循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)

    线速度的计算

    剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

    – 剪切速率 (s-1) = v  速率 (m/s)/   g 定-转子 间距 (m)

    由上可知,剪切速率取决于以下因素:

    – 转子的线速率

    – 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
    IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  

    速率V=  3.14 X  D(转子直径)X 转速 RPM  /   60

    CMSD2000系列氢氧化镁阻燃剂湿法研磨分散机选型表

    型号

    流量

    L/H

    转速

    rpm

    线速度

    m/s

    功率

    kw

    入/出口连接

    DN

    CMSD 2000/4

    300

    14000

    41

    4

    DN25/DN15

    CMSD 2000/5

    1000

    10500

    41

    11

    DN40/DN32

    CMSD 2000/10

    4000

    7200

    41

    22

    DN80/DN65

    CMSD 2000/20

    10000

    4900

    41

    45

    DN80/DN65

    CMSD 2000/30

    20000

    2850

    41

    90

    DN150/DN125

    CMSD 2000/50

    60000

    1100

    41

    160

    DN200/DN150

    表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
    流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到大允许量的10% 
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    氢氧化镁阻燃剂湿法研磨分散机

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