铜靶材是真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是高纯铜材料经过系列加工后的产品，具有特定的尺寸和形状高纯铜材料。由于高纯铜特别是超高纯铜具有许多优良的特性，已广泛应用于电子、通信、超导、航天等尖端领域。
铜靶材分类：铜靶材有平面铜靶材和旋转铜靶材之分。
平面铜靶材是片状的，有圆形、方形等。
旋转铜靶材是管状的，利用效率高，但不易加工，要通过高纯铜挤压、拉伸、校直、热处理，机加工等多种加工工序才能最终制得铜旋转靶材成品。
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