日本岛津氮化铝基板真空烧结炉VHSgr40/40/150
日本岛津AIN氮化铝基板真空烧结炉VHSgr40/40/150适用于氮化铝材料从脱气到大气压烧结的连续处理。新能源汽车、半导体、5G通讯、 LED等设备上的散热基板及其他结构件的烧结处理。。
用途：AIN氮化铝基板、AIN结构件
日本岛津AIN氮化铝基板真空烧结炉VHSgr40/40/150技术规格
有效尺寸(mm)：400*400*1500
处理量(KG)：400
额定温度(℃)：2000
真空度(Pa)：7x10~
压力：大气压
加热电力(kw)：230
使用气体：N2,Ar
脱气、脱脂、烧结一体化处理
日本岛津AIN氮化铝基板真空烧结炉VHSgr40/40/150炉内装有密封箱，使脱脂挥发的气体不污染炉内壁和隔热材，全部排出到炉外。
方形密封箱
由于是方形密封箱，使紧密性提高，可以对应大量的成型剂。
方形密封箱(内胆)使空间更加紧凑，减少气体及加热电力消耗，降低运行成本。