金属化膜的方阻与其耐压性能有着密切的关系。方阻是指金属化膜的电阻值，它与金属化膜的导电率和镀层厚度有关。具体来说：
方阻与镀层厚度：金属化薄膜方阻的大小与镀层的厚度成反比。蒸镀相同金属时，金属层越薄，方阻越大，相应的耐压越高；金属层越厚，方阻越小，耐电流能力较高，但耐电压能力降低。
方阻与耐压性能：高方阻意味着金属化层较薄，可以提供较高的耐压性能；而低方阻则意味着金属化层较厚，虽然耐电流能力增强，但耐电压能力会降低。
方阻与电容器质量：金属化膜方阻的大小直接影响电力电容器的质量。方阻过高可能导致金属化膜容易被氧化，从而影响电容器的容量稳定性；方阻过低则可能使薄膜的耐电压能力降低，导致薄膜被击。
方阻的优化：方阻的设定需要根据镀膜厂商提供的耐压参考值以及电容器所处的实际使用环境进行综合考虑，以确保电容器既能满足耐压要求，又能具备适当的电流承受能力。
方阻与自愈特性：金属化膜的自愈特性是指介质局部击穿后能立即恢复到击穿前的电性能。方阻的选择需要考虑到电容器在过电压情况下的自愈行为，以保证电容器的可靠性。
方阻与环境因素：金属化膜方阻还受到环境因素的影响，如温度、湿度等。在实际应用中，需要考虑这些环境因素对方阻和耐压性能的影响。
方阻与电容器失效机理：在高压直流电场与谐波耦合作用下，金属化膜电容器的失效机理与方阻有关。方阻的选择会影响金属化膜在电化学腐蚀和自愈过程中的表现，进而影响电容器的寿命和可靠性。
综上所述，金属化膜方阻的确定需要综合考虑耐压性能、电流承受能力、自愈特性以及实际使用环境等多方面因素，以确保电容器能够在保证安全的前提下，提供的性能。