奉节镍基合金晶间腐蚀-B法（硫酸&硫酸铜）

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在通常腐蚀条件下，钝化合金组织中的晶界活性不大，但当它具有晶间腐蚀的敏感性时，晶间活性很大，即晶格粒与晶界之间存在着一定的电位差，这主要是合金在受热不当时，组织发生改变而引起的。所以晶间腐蚀是一种由组织电化学不均匀性引起的局部腐蚀蚀。此外晶界存在杂质时，在一定介质也也会引起晶间腐蚀。